退火爐是在半導體器件制造中使用的一種工藝,其包括加熱多個半導體晶片以影響其電性能。熱處理是針對不同的效果而設計的??梢约訜峋约せ顡诫s劑,將薄膜轉換成薄膜或將薄膜轉換成晶片襯底界面,使致密沉積的薄膜,改變生長的薄膜的狀態,修復注入的損傷,移動摻雜劑或將摻雜劑從一個薄膜轉移到另一個薄膜或從薄膜進入晶圓襯底。退火爐可以集成到其他爐子處理步驟中,例如氧化,或者可以自己處理。
退火爐是由專門為加熱半導體晶片而設計的設備完成的。退火爐是節能型周期式作業爐,超節能結構,采用纖維結構,節電60%。
罩式退火爐主要用于在自然氣氛中進行薄板材退火以及鋼件的正火處理。1、特殊鋼、精密合金、大型全纖維臺車式電阻爐說明帶材、線材的光亮退火。2、特殊鋼鑄、鍛件的退火。3、硅鋼片成品退火。4、金屬、非金屬粉末壓制作件的燒結等。